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三星DRAM遇到天花板?15nm工艺或是那道坎

  2017年4月19日  【 转载 】 编辑:  浏览次数:

  进入三星官网

    据韩国媒体报导,三星电子为了 强固存储器霸业, 制订了雄伟的DRAM进展蓝图,不过业界预估,15纳米工艺可能是DRAM制程微缩的极限,与此同时三星还将 感想到来自中国业者的压力 。


三星DRAM遇到天花板?15nm工艺或是那道坎(图片来自baidu)

    三星上一年开始量产18纳米DRAM,目前正研发17纳米DRAM, 预约今年底 实现开发、明年量产 。与此同时,三星也成立16纳米DRAM开发小组, 指标最快2020年量产 。 有关人士 泄漏,微缩难度高,2020年量产 工夫可能延后 。

    三星从20纳米制程,转进10纳米制程,缩短线宽(Line-width)的速度显而易见放缓 。对此,三星 设施解决 方案部门的半导体 试验室人员Jung Eun-seung说,为了 接续缩短线宽,必须开发与目前不同的新材质,并 普及制程 巩固性,以便进入量产 。由于由15nm开始,电流外泄和电容器 烦扰和状况将更为显而易见,需求开发新的材质 。

    业界人士估量,15纳米兴许是制程微缩的极限, 将来三星可能难以透过制程微缩拉大与对手差距,并 担心中国业者急起直追,赶上三星 。




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