英伟达下一代GeForce RTX 50系游戏显卡曝光，将采纳台积电3nm制程 。

英伟达下一代GeForce RTX 50系游戏显卡(代号Blackwell)估计将会在明年年底正式亮相，当前对于该系列的显卡已经带来了更多爆料 。将采纳最新的台积电3nm工艺，同时采纳DisplayPort 2.1 标准 。

据知名爆料人Kopite7kimi 透露，英伟达正在 预备Blackwell GPU，该GPU将 利用于RTX 50系显卡，并将基于台积电的3nm工艺创造 。最新的3nm工艺技术将提供25-30%的功耗减低，每个晶体管的性能添加10-15%，面积削减42%，密度添加1.7倍 。不过当前尚不确定Blackwell GPU 使用哪个特定的3nm制程，特殊是当前台积电还在进行制程优化 。

此外，RTX 50系列显卡还将带来一系列 晋级，包含将 使用GDDR7内存解决 方案， 使用更佳先进的DisplayPort 2.1接口，这将使其与AMD自上一年以来提供的Radeon RX 7000系GPU 统一 。此外，该显卡有望 晋级到PCIe 5.0 协定，带来更高的带宽和性能 支撑 。

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