3月19日 信息，GTC 2024大会上，NVIDA正式 宣告，为加快下一代先进半导体芯片的创造速度并克服物理 制约，TSMC (台积电)和Synopsys(新思科技)将在生产中领先 使用NVIDIA计算光刻平台 。

家喻户晓，台积电是 寰球领先的晶圆代工厂，而新思科技则是芯片到系统设计解决 方案的领导者 。二者已经将 NVIDIA cuLitho加快计算光刻光平台，集成到其软件、创造工艺和系统中，在加快芯片创造速度的同时，也加快了对 将来最新一代NVIDIA Blackwell架构GPU的 支撑 。

在现代芯片创造过程中，计算光刻是至关主要的一步，是半导体创造中最 苛刻的工作负载，需求大规模的数据 核心，而随着 工夫的推移，硅小型化演进过程呈指数级放大了计算的需求 。

假如 使用CPU来计算，每年需求在计算光刻上 消费数百亿个小时 。 比方一个典型的芯片掩模，就需求3000万小时或更长期的CPU计算 工夫 。借助加快计算，350个NVIDIA H100 GPU现在 能够取代40,000 CPU 系统，从而缩小生产 工夫，同时减低成本、空间和功耗 。

据悉，NVIDIA的计算光刻平台 能够将半导体创造最密集的计算工作负载加快40-60倍 。

NVIDIA还推出了新的生成式AI算法，该算法将进一步 加强cuLitho的效率，与目前基 CPU计算的 步骤相比，极大地改良了半导体创造工艺 。

“计算光刻是芯片创造的基石，”NVIDIA 独创人兼CEO黄仁勋说 。“我们与台积电和新思科技合作在cuLitho上工作， 利用加快计算和生成式人工智能，为半导体扩铺开发了新的领域 。”

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