因为美国的制裁，国产半导体领域在近期近期几年 堪称是突飞猛进，在众多领域都 获得了新 打破 。而就在今日，依据北方华创官方公众号的 信息，在今日，北方华创正式公布 CCP 介质刻蚀机，与此同时，北方华创当前已经与 5 家客户 实现验证并实现量产 。而在此前北方华创就已经推出了 ICP 刻蚀机、金属刻蚀机等，今日公布的CCP 介质刻蚀机之后，北方华创正式实现刻蚀工艺全 遮蔽 。

北方华创 示意NMC508RIE介质刻蚀机的推出， 实现了该领域国产 设施工艺的最终一块拼图，实现了北方华创在 8 吋刻蚀 设施上的整体解决 方案，包含硅刻蚀、深硅刻蚀、金属刻蚀、化合物半导体刻蚀 (SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO_3,LiTaO₃等)等工艺 设施 。 而我们也 指望 其余的国产半导体厂商也都能早日实现 打破 。

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