关于芯片厂商而言，光刻机显得至关主要，而ASML也在 踊跃布局新的技术 。据外媒报导称，截至 2022 年第一季度，ASML已出货136个EUV系统，约曝光7000万个晶圆已曝光 。

依照官方的说法，新型号的EUV光刻机系统 NXE：3600D将能达到93%的可用性，这将让其进一步接近DUV光刻机(95%的可用性) 。

数据显示，NXE：3600D系统每小时可生产160个晶圆 (wph)，速度为30mJ/cm，这比 NXE：3400C高18% 。二正在开发的 NXE：3800E系统最初将以30mJ/cm的速度提供大过195wph的产能，并在吞吐量 晋级后达到220wph 。

据介绍，NXE：3600E 将在像差、重叠和吞吐量方面进行渐进式光学改良，而在0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML路线图包含到2025年左右推出吞吐量约为220wph的NXE：4000F 。

关于0.55 NA的光刻机，需求更新的否则而其光刻机系统 。同时还需求在光掩模、光刻胶叠层和图案转移工艺等方面齐头并进， 能力让新 设施 利用成为可能 。

依据ASML 在一季度财务会议上披露的数据，公司的 指标是在2022年出货55台EUV系统，并到2025年实现(最多)90台工具的 方案 。ASML同时还 抵赖， 90台可能超过2025年的实际需求，不过他们将其 形容为为满足2030年1万亿美元半导体行业需求所做出的 硕大 奋力 。

依照之前的说法，ASML正在研发新款光刻机，价格高达4亿美元(约合26亿元人民币)，双层巴士大、重超200吨 。原型机估计2023年上半年 竣工，2025年首次投入 使用，2026年到2030年主力出货 。

这款机器应该指的便是High-NA EXE：5200(0.55NA)，Intel是 寰球第一个下单的公司 。所谓High-NA也便是高数值孔径，2nm之后的节点都得依赖它实现 。

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