对，你没看错，本文的主题是“光刻胶”，而不是人尽皆知的“光刻机” 。光刻胶是微纳加工过程中十分 要害的材料 。有专家示意，中国要创造芯片，光有光刻机还不够，还得 攻破国外对“光刻胶”的垄断 。

奋力攻破国外光刻胶垄断

目前，西湖大学仇旻探究团队在《纳米快报》《纳米尺度》《 利用表面科学》等期刊上延续发表一系列探究成绩，雕刻小到微米甚至纳米级别的“冰雕”挥洒 自如，从准确定位到精准操纵雕刻力度，再到以“冰雕”为模具制作 构造、加工器件，一套以“wafer in， device out”(原料进，成品出)为 指标的“冰刻2.0”三维微纳加工系统雏形初现 。

这个研发带来显然极具前景，为什么这样说呢？零下140摄氏度左右的真空环境，能让水蒸气凝华成无定形冰 。“无常形”的水蒸气能够包裹任意形态的表面，哪怕是极小的样品也没有问题；水蒸气轻若无物，使在 软弱材料上加工变成可能 。对应“光刻胶”，他们给这层水冰起名“冰胶”，给冰胶 参加的电子束光刻技术起名“冰刻” 。

实际上，一旦将光刻胶换成了冰胶，还 能够极大地简化加工流程，躲避洗胶带来的 传染，以及难以洗净的光刻胶残留招致良品率低等问题 。“冰刻” 只有求让冰溶化或升华成水蒸气即可，宛然这层冰胶 未曾存在过一样 。

上述团队在最新发表的文章结尾，他们用一种十分科幻的 模式瞻望了“冰刻”的将来 。毫无 疑难，将来环绕“冰刻”的探究，将聚焦于传统“光刻” 威力无奈企及的领域 。受益于水这种物质得天独厚的生物相容性，在生物样本上“冰刻”光子波导或电子电路有望得以实现 。

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