1月7日 信息，Intel官方 宣告，位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的 寰球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，型号为“Twinscan EXE:5000”，它将协助Intel 接续推动摩尔定律 。

Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机，将用于 方案今年量产的Intel 18A创造工艺，也便是1.8nm级别 。

Intel还第一个下单了改良型的Twinscan EXE:5200，将在2025-2026年用于更先进工艺 。

依据此前报导，ASML将在2024年生产最多10台新一代高NA EUV光刻机，其中Intel就定了多达6台 。

到了2027-2028年，ASML每年都能生产20台左右的高NA EUV光刻机 。

新光刻机的价格估量至少3亿美元，甚至可能达到或超过4亿美元，也便是 逼近人民币30亿元，而现有低NA EUV光刻机需求2亿美元左右 。

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