据外媒报导，英特尔在14nm 支撑上已经推三代产品，至于10nm工艺也仅仅 示意在今年进行试验性生产 。为何会这样呢，对此三星和英特尔的专家纷纷坦言， 惟独是受困于EUV(极紫外光刻)推动的 困苦 。

英特尔三星说EUV光刻机仍面临不少商用难题(图片来自baidu)

    英特尔以及三星等在加州举办的国际光电工程学会(SPIE)年度会议上 示意，用于10nm以下芯片生产的 要害技术或者说 设施EUV(极紫外光刻)光刻机仍面临不少商用难题 。

    三星 示意上一年底他们生产出了首款EUV光罩，瑕疵已经很少 。不过，三星 示意，他们 依旧认为EUV可用于其7nm制程节点 。

     至于英特尔则是从1992年就着手开发，上一年底为晶圆厂出货其首款达到商用品质的EUV光罩，当前已经 参加到14、10和7nm无缺点网线生产 。在现有的8个核心EUV 方案中，有6项 方案已经 预备好或马上就绪 。英特尔EUV 方案负责人Britt Turkot指出，用于 遮蔽EUV晶圆的防尘薄膜仍在开发中，而用于检测EUV光罩的新工具也还验证中 。

    与三星激进的做法不同，英特尔 示意需期待 彻底成熟后导入 。英特尔EUV小组专家Britt Turkot称， 固然其可作业 工夫超过了75%，但一旦运行，光罩问题就会层出不穷 。

    当前在最高端的沉醉式光刻机中，荷兰ASML(阿斯麦)占有80%的份额，其中NXE 3350B是所有14套EUV系统中的绝对主力(累计6套)，而其单价高达6亿元人民币，等同于一台F35战斗机的价格 。