● ITRS与光刻技术发展

    《今日材料》（Materials Today）是Elsevier出版集团旗下的材料科学评论期刊，是一份在材料学业界享有盛名的出版物。《今日材料》在2008年评选出材料科学领域在过去50年间的十大进展。其中一些科研发现改变了该领域的研究方向，另外一些则为材料科学领域提供了新的机会和研究方向。

    令人惊讶的是，排在首位的并不是某项具体的研究成果，而是一种优先选择研究方向和制定研发计划的方式——ITRS。《国际半导体技术蓝图》（ITRS）通过设定创新和技术需求的目标推动了微电子行业的巨大进展。ITRS融合了科学、技术和经济学，很难想象在材料学领域还有什么能超越它对这个领域进展所起的推动作用。

    ITRS全称为 International Technology Roadmap for Semiconductors，中文译名为国际半导体技术蓝图。

ITRS发布的权威研究报告封面

    ITRS是由欧洲、日本、韩国、台湾、美国五个主要的芯片制造地区发起的。

    发起组织分别是：

    European Semiconductor Industry Association （ESIA，欧洲半导体工业协会）；
    the Japan Electronics and Information Technology Industries Association （JEITA，日本电子与信息技术工业协会）；
    the Korean Semiconductor Industry Association （KSIA，韩国半导体工业协会）；
    the Taiwan Semiconductor Industry Association （TSIA,台湾半导体工业协会）；
    the United States Semiconductor Industry Association（SIA，美国半导体工业联盟）。

    ITRS的目的是确保集成电路（IC）和使用IC的产品在成本效益基础上的性能改进，从而持续半导体产业的健康和成功。

    ITRS每年会组织会议对半导体行业的发展方向进行讨论，通过全球芯片制造商、设备供应商、研究团体和consortia的协作努力，ITRS团队识别关键的挑战，鼓励创新解决方案，并欢迎来自半导体团体的分享。而最为重要的则是每年在会后发布的ROADMAP（线路图），ITRS在业内发布的ROADMAP具有半导体行业最高权威性。

半导体光刻工艺40年发展历程与预测

    上图为依据ITRS报告制作的半导体光刻回顾与展望路线图，从图中我们可以看到EVU技术虽然进展坎坷商业化困难重重，但是这项技术前景仍然看好。但是目前最为实际的情况是193nm光刻技术借助于沉浸式技术，已经能够延续到11nm工艺，这为今后几年的半导体器件蚀刻提供了稳定的技术支撑。

本文参考文献：

[1]  光刻技术——半导体工业的“领头羊”
[2]  半导体光刻技术概况
[3]  湿浸式光刻技术成为半导体产业新宠
[4]  光刻技术的发展极限——SEMATECH公司副总裁访谈
[5]  光刻行业遭双重打击 下一代光刻技术面临难题
[6]  EUV技术对光刻胶，掩膜版的要求
[7]  极紫外投影光刻掩膜技术
[8]  193nm沉浸式光刻技术发展现状及今后难点
[9]  450mm，EUV，TSV都将延迟
[10] 沉浸式光刻缩小至22纳米节点，IBM抛弃EUV
[11] Intel欲将193nm沉浸式光刻技术延用至11nm制程节点